HIPIMS是高功率脈沖磁控濺射技術（High power impulse magnetron sputtering）的簡稱，其原理是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術，HIPIMS的峰值功率可以達到MW級別，但由于脈沖作用時間短，其平均功率與普通磁控濺射一樣，這樣陰極不會因過熱贈增加靶材冷卻。HIPIMS綜合了磁控濺射低溫沉積、表面光滑、無顆粒缺陷和電弧離子鍍金屬離化率高、膜層結合力強、涂層致密的優點，且離子束流不含大顆粒，在控制涂層微結構的同時獲得優異的膜基結合力，在降低涂層內應力及提高膜層致密性、均勻性等方面具有優勢，特別是在硬質涂層和功能涂層的應用方面有顯著優勢。

目前，我公司采用的HIPIMS電源是霍廷格TruPlasma Highpulse 4000 系列電源。同時附贈霍廷格公司的PVD Power軟件。

多語種軟件 PVD Power 用戶界面易操作，提供多方面的操作、配置及診斷方法，以此優化工藝質量和有效排除故障：顯示所有相關工藝參數的實際值以及警告和報警消息、由操作員規定目標值和以較高的時間分辨率記錄重要運行參數并進行可視化（示波器功能）。