氣體離子刻蝕清洗及輔助沉積技術的基本原理如下：

① 在涂層前，利用氣體離子源將氬氣和氫氣離化，產生的氣體離子（Ar+和H+）在偏壓作用下，對產品表面進行刻蝕清洗；

② 在涂層中，利用氣體離子源將氬氣、氮氣、氧氣等反應氣體離化，輔助磁控濺射或電弧沉積；

氣體離子刻蝕清洗及輔助沉積優點有：

① 氣體等離子體能量范圍寬，可強可弱，適用于各種類型的工件；

② 有效去除表面氧化層，刻蝕清洗效果更徹底，膜基結合力好；

③ 輔助沉積，有利于涂層致密性、改善鍍膜均勻性；