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在正常運行一段時刻后,反滲透膜元件會遭到在給水中可能存在的懸浮物質或難溶物質的污染,這些污染物中Z常見的為碳酸鈣垢、硫酸鈣垢、金屬氧化物垢、硅堆積物及有機或生物堆積物。
定時檢測體系整體功能是確認膜元件產生污染的一個好辦法,不同的污染物會對膜元件功能造成不同程度的損害。表中列出了常見污染物對膜功能的影響。
常見污染物及其去除辦法
1、碳酸鈣垢
在阻垢劑添加體系呈現毛病或加酸體系呈現毛病而導致給水 pH 升高,那么碳酸鈣就有可能堆積出來。應盡早發現碳酸鈣垢沉淀的產生,以避免生長的晶體對膜外表產生損害,如早期發現碳酸鈣垢,能夠用下降給水 pH 至 3.0 ~ 5.0 之間運行 1 ~ 2 小時的辦法去除。對沉淀時刻更長的碳酸鈣垢,則應選用檸檬酸清洗液進行循環清洗或通宵浸泡。
注:應保證任何清洗液的 pH 不要低于 2.0 ,盃則可能會 RO 膜元件造成損害,特別是在溫度較高時更應注意,Z高的 pH 不應高于 11.0 。查運用氨水來提高 pH ,運用硫酸或鹽酸來下降 pH 值。
2、硫酸鈣垢
三聚磷酸鈉溶液(參見上表中三聚磷酸鈉溶液)是將硫酸鈣垢從反滲透膜外表去除掉的Z佳辦法。
3、金屬氧化物垢
能夠運用上面所述的去除碳酸鈣垢的辦法,很容易地去除堆積下來的氫氧化物 ( 例如氫氧化鐵 ) 。
4、硅垢
關于不是與金屬化物或有機物共生的硅垢,一般只有經過專門的清洗辦法才干將他們去除。
5、有機堆積物
有機堆積物(例如微生物粘泥或霉斑)能夠運用上表清洗液 3 去除,為了避免再繁衍,可運用滅菌溶液在體系中循環、浸泡,一般需較長時刻浸泡才干有用,如反滲透設備停用三天時,Z好選用消毒處理。
6、清洗液
清洗反滲透膜元件時主張選用上表所列的清洗液。確認清洗前對污染物進行化學剖析十分重要的,對剖析成果的詳細剖析比較,可保證挑選Z佳的清洗劑及清洗辦法,應記載每次清洗時清洗辦法及獲得的清洗效果,為在特定給水條件下,找出Z佳的清洗辦法供給依據。
關于無機污染物主張運用清洗液 1 。關于硫酸鈣及有機物主張運用清洗液 2。關于嚴峻有機物污染主張運用清洗液 3 。一切清洗能夠在Z高溫度為40℃下清洗 60 分鐘,所需用品量以每 100 加侖(379 升)中參加量計,配制清洗液時按比例參加藥品及清洗用水,應選用不含游離氯的反滲透產品水來配制溶液并混合均勻。
清洗時將清洗溶液以低壓大流量在膜的高壓側循環,此時膜元件仍裝壓力容器內而且需要用專門的清洗設備來完成該作業。